NO和NO_2在V_2O_5/AC催化剂表面的反应行为

作者：孙德魁; 刘振宇; 贵国庆; 黄张根; 刘清雅; 肖勇

来源：催化学报, 2010, (01): 56-60.

• 五氧化二钒
• 活性炭
• 氮氧化物
• 氨
• 选择性催化还原 vanadium oxide
• activated coke
• nitrogen oxide
• ammonia
• selective catalytic reduction

采用程序升温脱附、在线质谱和原位漫反射红外光谱等手段,比较了NO和NO2在V2O5及V2O5/AC催化剂表面的选择催化还原(SCR)反应行为.结果表明,氨以质子态NH4+和共价态NH3分子两种形态吸附于纯V2O5表面,V=O为氨的主要吸附活性位.无氧状态下,NO和NO2皆可与吸附于V2O5表面的NH3反应,并且NO2与吸附态NH3的反应活性高于NO.但在V2O5/AC催化剂表面,同样在无氧条件下,NO几乎不与吸附态NH3反应,而NO2却可以反应并生成N2.在V2O5/AC表面,NO很容易被气相O2氧化为NO2,然后参与SCR反应.可见,NO2是NO在V2O5/AC表面发生SCR反应的中间体.

• 单位
  中国科学院山西煤炭化学研究所; 中国科学院研究生院; 北京化工大学; 煤转化国家重点实验室; 化工资源有效利用国家重点实验室