<正>NIST发布《极紫外（EUV）光刻分析报告》近日，美国国家标准与技术研究院（NIST）召开了交叉工作组会议，并发布了《极紫外光刻（EUVL）工作组会议报告：现状、需求和前进道路》。会议集中讨论了EUVL的研究、开发和制造等方面的关键技术问题和所需的计量学进展。报告简要总结了EUVL的五个技术主题（液滴发生器、EUV产生的辐射计量学、等离子体物理和建模、EUV组件的表征、EUV光分析工具），并对行业发展提出了建议，
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