科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能，由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域。然而，N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价键断裂，导致活性氯的含量降低，进而引起其抗菌性能的下降。如何提高N—Cl型卤胺抗菌材料的紫外稳定性受到了国内外学者的重点关注。该文首先阐述了N—Cl型卤胺抗菌剂的种类和造成N—Cl型卤胺抗菌材料中活性氯含量降低的因素；然后，综述了通过改变卤胺前驱体结构，引入纳米TiO2、ZnO、AgCl无机粒子和有机紫外吸收剂来提高N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性的研究进展；最后，讨论了该研究领域所面临的问题和挑战，并对未来发展进行了展望。
- 单位
