高品质磷化铟多晶的HGF法合成研究

作者:刘京明; 赵有文; 张成龙; 卢伟; 杨俊; 沈桂英
来源:半导体光电, 2024, 45(01): 101-104.
DOI:10.16818/j.issn1001-5868.2023101002

摘要

用高压水平温度梯度定向结晶技术合成了磷化铟(InP)多晶。分析了不同温度梯度对多晶配比度的影响,结果表明当温度梯度低于4℃/cm时,多晶呈明显富铟状态,配比度在97%以下;当温度梯度在5℃/cm以上时多晶致密、无铟夹杂,达到近化学配比状态,配比度达到99%以上。对多晶样品进行了霍尔测试和辉光放电质谱(GDMS)测试,合成的高配比度磷化铟多晶载流子浓度在8×1015 cm-3以下,迁移率在3 900 cm2·V-1·s-1以上,纯度达到99.999 99%以上。多晶中的杂质主要有Si, S,Fe, Cu, Zn, As等,分析了杂质的来源及其对材料性能的影响。

全文