为了探讨红外器件钝化膜工艺专用磁控溅射系统的设计,通过分析红外器件钝化膜工艺特性,采用多腔群集式结构、多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现了8英寸范围内高均匀性薄膜沉积和基片可旋转上置可靠传输,其性能稳定可靠。