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摘要
利用Star-CCM流体仿真软件，按照常规工艺参数，对管式等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备反应室腔体进行三维建模仿真，研究搭载不同结构石墨舟的反应室腔体内部流场分布，结合仿真数据，分组实验验证镂空石墨舟块对镀膜均匀性的影响。实验结果表明：镂空舟块能有效改善石墨舟的舟中及舟尾舟片间的气流分布，提高薄膜生长的均匀性。
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利用Star-CCM流体仿真软件，按照常规工艺参数，对管式等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备反应室腔体进行三维建模仿真，研究搭载不同结构石墨舟的反应室腔体内部流场分布，结合仿真数据，分组实验验证镂空石墨舟块对镀膜均匀性的影响。实验结果表明：镂空舟块能有效改善石墨舟的舟中及舟尾舟片间的气流分布，提高薄膜生长的均匀性。
