摘要
采用磁控溅射技术在石英衬底上制备氧化镓(Ga2O3)薄膜,研究溅射过程中不同氩氧比对薄膜晶体结构、表面形貌、粗糙度、拉曼光谱以及紫外探测性能等的影响。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪和紫外-可见分光光度计等测试仪器对氧化镓薄膜进行表征分析。实验结果表明,氧化镓薄膜呈现β型晶体结构,薄膜表面晶粒尺寸均匀;溅射过程中加入氧气可以有效减少氧化镓薄膜中的氧空位缺陷,适当增大氧氩比可有效提高薄膜质量和薄膜对紫外光的探测能力。
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单位西安邮电大学; 电子工程学院