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摘要
描述了TiNi形状记忆合金薄膜的一般特性及成分对其组织及性能的重要影响。磁控溅射法是应用最为广泛的制备TiNi基形状记忆薄膜的方法之一,但由于Ti与Ni的溅射产额不同,很难得到理想成分的TiNi薄膜。目前主要采用改变工艺参数或靶材成分补偿的方法控制薄膜的成分。借鉴反应磁控溅射沉积薄膜时成分控制方法,提出了一种利用溅射靶表面光发射谱的控制技术,理论上可以达到精确检测或控制TiNi形状记忆合金薄膜成分的目的。
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单位太原理工大学; 宁波工程学院
