等离子熔积成形过程中等距线填充算法研究

作者：蒋疆; 张海鸥; 王桂兰

来源：焊接技术, 2009, (10): 6-8+1.

DOI：10.13846/j.cnki.cn12-1070/tg.2009.10.003

• 等离子熔积
• 等距线
• 路径规划
• 干涉环 plasma deposition manufacturing
• offsetting style
• path planning
• interfered ring

探讨了等离子熔积制造路径的特点,分析了等距线路径规划关键技术——干涉环的处理方法。依据干涉环求交、交点简化、存储方向变更与新环重构、重构环有效性判断等步骤,详述了处理二维干涉轮廓环的具体步骤和算法。为避免由于热效应产生的翘曲变形,路径在环绕扫描顺序上进行了优化处理。该算法在VC++平台上得到实现,并以汽车翼子板模具的复杂切片轮廓为例验证了算法的可行性。