WO₃纳米块薄膜光电催化性能的研究

作者：肖楠; 寇艳强; 张宇飞; 杨继凯; 杨雪

来源：长春理工大学学报(自然科学版), 2020, 43(01): 58-62.

DOI：10.3969/j.issn.1672-9870.2020.01.010

• WO3纳米块薄膜
• 水热法
• 光电流
• 光电催化

以钨酸钠（Na2WO4·2H2O）为原料,草酸铵(（NH4）2C2O4·H2O)为辅助剂,采用水热法在FTO衬底上制备WO3纳米块薄膜。通过X射线衍射和扫描电子显微镜对WO3纳米块薄膜进行表征。利用光电流和光电催化测试手段,得到WO3纳米块薄膜的光电流值和光电催化降解效率等参数,并对其进行详细分析。通过研究水热时间对WO3纳米块薄膜光电催化性能的影响,结果显示水热生长4 h的WO3纳米块薄膜具有良好光电流和光电催化性能。

• 单位
  长春理工大学