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摘要
Mo-Ta合金作为一种有高熔点、抗辐照等特点的材料,被视为聚变工程中制造第一壁的潜在材料。目前有关Mo-Ta合金与H杂质相互作用的研究还不完善,本文研究了H杂质在体心立方Mo53Ta1合金中间隙位置的成键机制。通过基于密度泛函的第一性原理方法,通过Material Studio的CASTEP(Cambridge Serial Total Energy Package)模块计算了Mo53Ta1-H体系的溶解能,态密度与布居数。溶解能计算结果表明:H原子在Mo-Ta合金中更倾向于存在与四面体间隙位置;通过分波态密度与布居数,分析了H、Mo、Ta之间不同电子轨道间电子转移情况与不同原子间的成键情况。得出Mo、Ta间为金属键,H与Ta和Mo之间存在共价作用,且H与Ta之间的共价作用更强。
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