14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备

作者：吴文娟; 张众; 朱京涛; 王风丽; 陈玲燕; 周洪军; 霍同林

来源：光学精密工程, 2011, (06): 1192-1198.

• 极紫外与软X射线
• 多层膜
• 低原子序数材料
• 磁控溅射
• 光谱分辨率 extreme ultraviolet and soft X-ray
• multilayer
• low-Z materials
• magnetron sputtering
• spectral resolution

为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜。然后,用直流磁控溅射的方法制备Si/B4C,Si/C,Si/SiC和Mo/Si多层膜,并用X射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度。最后,用同步辐射测试多层膜的反射率。同步辐射测试结果显示,Mo/Si多层膜的带宽最大,为0.57nm;Si/SiC多层膜的带宽最小,为0.18nm,结果与理论基本一致。实验结果表明,低原子...

• 单位
  中国科技大学; 同济大学; 上海应用技术大学