下一代光刻技术的设备

作者：翁寿松

来源：电子工业专用设备, 2004, (10): 35-38.

• 下一代光刻技术
• X射线光刻技术
• 极紫外线光刻技术
• 纳米压印光刻技术 Next generation lithography
• X-ray lithography
• Extreme ultraviolet lithography
• Nanoimprint lithography

下一代光刻技术是指≤32nm工艺节点的光刻技术。介绍了下一代光刻技术与设备,包括X射线光刻技术、极紫外线光刻技术和纳米压印光刻技术等。