新型CFC结构对PECVD膜层clean性能提升的研究

作者：周东淇; 董杰; 金哲山; 杨晓东; 周立; 张猛; 胡毓龙; 张杰峰; 刘晓婷

来源：电子世界, 2019, (09): 26-27.

DOI：10.19353/j.cnki.dzsj.2019.09.009

• PECVD
• CFC
• clean

<正>随着PECVD设备逐渐老化,上部电极(Diffuser)挂Particle的能力变差,腔室进行Clean时四角的Clean能力降低,Clean时间加长,为保证产品品质,需增加腔室的Clean时间,因此增加了NF3用量和成本,严重的还会导致个别腔室出现四角膜层聚集,影响产品良率和品质。新型CFC(Corner Flow Cleaning)装置,其原理是通过气流引导,让更多的NF3气体流向四角,有效增强四角Clean能力,达到降低Clean时间和确保品质的目的。

• 单位
  北京京东方显示技术有限公司