利用HRXRD和UV-Vis反射光谱确定AlGaN/GaN/Al_2O_3的结构与成分

作者:季振国; 冯丹丹; 席俊华; 毛启楠; 袁苑; 郝芳; 陈敏梅
来源:材料科学与工程学报, 2008, (03): 325-327.
DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2008.03.001

摘要

结合紫外-可见光谱和高分辨XRD两种测试方法,无损、可靠地确定了AlGaN/GaN HEMT结构内各层的厚度、成分、应力等参数,解决了高分辨XRD无法同时确定成分与应力的难题。这两种方法的好处是样品不需经过特殊的处理,也不需进行切割、减薄等工艺,具有快速、无损、准确的特点,可以作为AlGaN/GaNHEMT器件的筛选工具,提高器件的成品率、降低生产成本。

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