磁控溅射用难熔金属靶材制作、应用与发展

作者：贾国斌; 冯寅楠; 贾英

来源：金属功能材料, 2016, 23(06): 48-52.

DOI：10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2015054

• 磁控溅射
• 高纯难熔金属
• 靶材

随着磁控溅射技术应用日益广泛,难熔金属靶材需求不断增大。就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨,分析了制作过程中致密度、纯度、晶粒尺寸及结晶取向对靶材性能的影响,并对难熔金属靶材的发展趋势进行展望。

• 单位
  北京有色金属研究总院