脉冲激光沉积法室温下ZnO薄膜的制备与表征

作者：曹亮亮; 叶志镇; 张阳; 朱丽萍; 张银珠; 诸葛飞; 赵炳辉

来源：真空科学与技术学报, 2005, (04): 256-258+262.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2005.04.005

• ZnO薄膜
• C轴取向
• 室温
• 脉冲激光沉积 ZnO film
• c-axis orientation
• Room temperature
• Pulsed laser deposition

在室温条件下,采用脉冲激光沉积技术在玻璃衬底上生长了ZnO薄膜。对薄膜的XRD分析表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构并沿c轴取向生长,且(002)衍射峰的半高峰宽仅为0.24°。薄膜沿c轴方向受到一定的张应力为1.7×108N/m2。原子力显微镜分析表明薄膜表面较为平整,平均粗糙度约为6.5 nm,晶粒尺寸约为50 nm。此外,透射光谱分析表明薄膜的禁带宽度为3.25 eV,与ZnO体材料的禁带宽度3.30 eV基本相同。

• 单位
  硅材料国家重点实验室