Ti(SO_4)_2为钛源电沉积法制备TiO_2薄膜的研究

作者：曾宪光; 庄稼; 罗昌森; 王红; 邓飞

来源：化工新型材料, 2013, 41(05): 52-54.

• TiO2薄膜
• 制备
• 阴极电沉积法
• 工艺条件 titanium dioxide film
• preparation
• cathodic electrodeposition method
• process condition

以Ti(SO4)2为钛源采用阴极电沉积法在导电玻璃上生成TiO2薄膜。采用单因素法分析了电压、pH、时间等因素对阴极电沉积TiO2薄膜的影响,确定了电沉积液最佳配方和工艺条件,并采用XRD、SEM、TG-DTA等分析手段进行了表征。实验结果表明:阴极电沉积法制备TiO2薄膜的最佳配方及工艺条件为10mL Ti(SO4)2,3mLH2O2,2mLHNO3,8mL NH3.H2O,20mL H2O,pH为1.5,电压为3.5V,沉积时间为20min。在此条件下,在导电玻璃上能够形成一层均匀TiO2薄膜,经XRD检测该膜层晶型为锐钛矿,该膜层可应用于染料敏化太阳能电池、光催化等领域。

• 单位
  材料科学与工程学院; 四川理工学院; 西南石油大学