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摘要
本发明公开了一种高性能陶瓷涂层及其制备方法与应用,所述制备方法主要针对陶瓷涂层的传统镀制方法存在的材料可控性差、膜基结合强度低、难以在复杂的工件表面形成均匀涂层的问题,提出使用金属离子注入与气体离子渗相结合的复合技术进行制备。具体包括以下步骤：(1)对基体进行预处理,然后采用金属离子注入在基体表面注入金属离子,形成金属涂层；(2)通过气体离子渗在步骤(1)的金属涂层表面渗入N、C或O离子,原位生成所述高性能陶瓷涂层。通过此方法制备的陶瓷涂层与基底的结合强度高,涂层成分可控,基材适用性广,且能够在复杂的工件表面均匀沉积。
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