NJFET器件饱和电流影响因子及工艺优化研究

作者:陈培仓; 朱赛宁; 潘建华; 陈慧蓉
来源:微电子学, 2022, 52(06): 1061-1064.
DOI:10.13911/j.cnki.1004-3365.220127

摘要

针对N沟道结型场效应晶体管(NJFET)在工艺制造过程中极易出现饱和电流一致性差的问题,从一次氧化、栅注入和栅推结等方面对饱和电流工艺影响因子开展了实验研究,并提出了工艺优化和控制方法,使器件饱和电流参数得到有效控制,一致性由6.90%改善至0.38%,圆片对档率由85%提升到96%以上,提升了器件产品质量,降低了成本。

  • 单位
    无锡中微晶园电子有限公司

全文