铋基焦绿石薄膜的湿法刻蚀方法研究

作者：高莉彬; 李汝冠; 蒋书文; 李言荣

来源：微纳电子技术, 2010, (08): 499-502.

• 铋基焦绿石薄膜
• 湿法刻蚀
• 图形化
• 微波可调介质薄膜材料
• 刻蚀液 bismuth based cubic pyrochlore thin film
• wet etching
• patterning
• microwave tunable thin film material
• etching solution

介绍了一种能对铋基焦绿石薄膜进行湿法刻蚀的有效方法,研究了HF,NH4F和HNO3的水溶液对铌酸锌铋(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7,BZN)和铌酸镁铋(Bi1.5MgNb1.5O7,BMN)两种铋基焦绿石薄膜的刻蚀情况。结果表明,刻蚀配比V(HF)∶m(NH4F)∶V(HNO3)∶V(H2O)为10mL∶3g∶10mL∶10mL时,BZN和BMN薄膜能得到有效刻蚀,刻蚀速率分别为7nm/s和4nm/s,图形刻蚀精度高。最后讨论了该刻蚀液对铋基焦绿石薄膜的刻蚀机理,加入NH4F作为络合剂能避免刻蚀过程中三氟化铋BiF3难溶沉淀物的生成,加入HNO3作为助溶剂可以调节刻蚀速率,从而提高湿法刻...

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室