微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究

作者：王贵梅^*; 刘苗; 朱少杰; 赵环; 李影影

来源：太阳能, 2020, (12): 56-61.

• 多晶硅片
• SiNx膜
• 微波板式PECVD设备
• 均匀性

由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响。