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摘要
<正>1947年，世界上第一个晶体管诞生，开启了以硅半导体为代表的信息时代。“一代材料、一代器件、一代技术”。半个多世纪来，半导体材料与器件支撑了信息技术的飞速发展，而信息技术的发展需求又驱动了半导体材料与器件工艺的进步。元素半导体、化合物半导体包括宽禁带和超宽禁带半导体材料制备技术的更新迭代满足了现代信息技术的高速、高功率密度和高能效要求，器件的微、小型化以及低功耗要求又推动了半导体薄膜及其外延等精密制备技术的发展。
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<正>1947年，世界上第一个晶体管诞生，开启了以硅半导体为代表的信息时代。“一代材料、一代器件、一代技术”。半个多世纪来，半导体材料与器件支撑了信息技术的飞速发展，而信息技术的发展需求又驱动了半导体材料与器件工艺的进步。元素半导体、化合物半导体包括宽禁带和超宽禁带半导体材料制备技术的更新迭代满足了现代信息技术的高速、高功率密度和高能效要求，器件的微、小型化以及低功耗要求又推动了半导体薄膜及其外延等精密制备技术的发展。
