结合理论和数值计算分析了稀薄效应对磁头/磁盘系统纳米间隙润滑的影响。从膜厚的角度来看,低于气体分子平均自由程的比例并不大。而从膜厚和压力2方面来看,处于稀薄效应区域的比例将大大增加。实际的磁头/磁盘系统中,磁头的大部分仍工作在稀薄气体的滑流区域,离稀薄气体的过渡区还较远。考虑稀薄效应后,磁头/磁盘系统的重要工作性能参数,都有减小的趋势。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
