CH4/N2在炭分子筛上的吸附平衡与扩散模型

作者：王鹏; 石耀琦; 马正飞; 刘晓勤

来源：高校化学工程学报, 2014, 28(03): 484-488.

• CH4
• N2
• 炭分子筛
• 吸附等温线
• 扩散模型
• Double Langmuir模型

使用高精密质量吸附仪(IGA-100,HIDEN)测定了CH4和N2纯组分在炭分子筛上于298、313和328 K温度下的吸附等温线及吸附动力学曲线,研究了CH4和N2在炭分子上的吸附热力学及动力学性质。选择Double Langmuir模型(DL)对吸附等温线数据进行了模拟;选择Fick扩散模型进行了吸附动力学的模拟。结果表明,DL模型可以准确地描述CH4和N2在炭分子筛上的吸附,拟合相关系数都非常接近1,N2在该炭分子筛上的吸附量大于CH4的吸附量;通过Fick扩算模型计算得:2 4N CHD/D=7.26,N2在该炭分子筛上的扩散速率大于CH4,所以该炭分子筛可以实现固定床出口直接富集CH4的目的。

• 单位
  材料化学工程国家重点实验室; 化学化工学院; 南京工业大学