WO₃/NiWO₄复合薄膜的制备及其光电化学性能

作者：于舒睿; 王蓟; 杨继凯; 王国政; 杨雪; 聂德财; 李思远

来源：半导体光电, 2022, 43(01): 137-142.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2021111704

• WO3
• NiWO4
• 复合薄膜
• 光电流
• 光电催化

采用两步水热法在导电玻璃（FTO）上制备了WO3/NiWO4复合薄膜。通过XRD,SEM表征了WO3/NiWO4复合薄膜的组成结构及微观形貌，利用UV-Vis、光电流测试、光电催化测试和交流阻抗测试分析了WO3/NiWO4复合薄膜的光电性能。结果表明：WO3/NiWO4复合薄膜相较于WO3薄膜具有更好的光吸收特性、光电流密度和光电催化活性，其中水热反应3 h的WO3/NiWO4复合薄膜的光电化学性能最佳。WO3/NiWO4-3 h在1.4 V（vs.Ag/AgCl）时的光电流密度为1.94 mA/cm2,光电催化210 min对亚甲基蓝溶液的降解效率为57.1%。交流阻抗图谱表明WO3/NiWO4薄膜的电荷转移电阻小于WO3薄膜，光电化学性能更优。

• 单位
  物理学院; 长春理工大学