共溅射法制备AlSb薄膜及其性质研究

作者：常璐; 刘竞艳; 王朋伟; 田弋纬

来源：热加工工艺, 2022, 51(12): 77-79.

DOI：10.14158/j.cnki.1001-3814.20221104

• AlSb
• 共溅射
• AES

使用Al、Sb单质靶材，采用共溅射法制备Al、Sb薄膜，并进行原位退火处理以获得AlSb薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）和俄歇电子能谱（AES）分别分析了该薄膜的结构和元素的深度剖析及化学价态。结果表明：共溅射制备的AlSb薄膜呈立方相结构，沿(111)晶向择优取向。共溅射制备的AlSb薄膜表面含有Al、C、Sb和O元素，其中Al元素显示电正性，Sb元素显示电负性。