青铜/纯铜同基合金离子镀的研究

作者：侯文义; 郝俊丽; 袁庆龙

来源：热加工工艺, 2011, (08): 121-122.

DOI：10.14158/j.cnki.1001-3814.2011.08.019

• 同基合金
• 离子镀
• 组织
• 显微硬度 same basic component for both deposited layer and the substrate
• ion plating
• microstructure
• microhardness

综述了近年来青铜/纯铜同基合金离子镀的研究现状。分别对镀层组织、镀层成分、显微硬度和沉积速率进行了讨论。结果表明:青铜/纯铜离子沉积层组织由片层状薄片构成;过渡层的存在使镀层与基材具有令人满意的结合强度。

• 单位
  太原理工大学; 晋中职业技术学院; 河南理工大学