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摘要
高纯钨具有高抗电子迁移、高硬度和高熔点等优良性能而被广泛应用于制备溅射靶材、放电灯电极和高温炉构件等。本文综述了高纯钨的除杂方法和痕量杂质检测方法,着重介绍了高纯钨的湿法除杂法(沉淀法、氨溶结晶法、溶剂萃取法和离子交换法)和火法除杂法(电子束熔炼法、区域熔炼法和化学气相沉积法)的原理、优缺点和应用现状,并指出了未来高纯钨除杂方法需要重点解决的几个问题,从而为设计高效合理的除杂方案提供理论和技术支持。
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高纯钨具有高抗电子迁移、高硬度和高熔点等优良性能而被广泛应用于制备溅射靶材、放电灯电极和高温炉构件等。本文综述了高纯钨的除杂方法和痕量杂质检测方法,着重介绍了高纯钨的湿法除杂法(沉淀法、氨溶结晶法、溶剂萃取法和离子交换法)和火法除杂法(电子束熔炼法、区域熔炼法和化学气相沉积法)的原理、优缺点和应用现状,并指出了未来高纯钨除杂方法需要重点解决的几个问题,从而为设计高效合理的除杂方案提供理论和技术支持。
