Ti_(1-x)Al_xN涂层LPCVD过程模拟中的热力学计算

作者：王少卿; 陈响明; 杜勇; 王社权

来源：硬质合金, 2013, 30(06): 297-301.

• CVD
• Ti1-xAlxN涂层
• 热力学计算

本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-x Alx N相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-x Alx N涂层的LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)过程进行了计算模拟。研究了AlCl3,NH3和H2等反应气体成分变化对涂层中的Al含量的影响,理论预测结果与文献报道的实验结果吻合良好。利用计算模拟手段探究了富Al-Ti1-x Alx N涂层的沉积过程,并预测了富Al-Ti1-x Alx N涂层中的Al含量随反应气体成分以及沉积温度改变的变化情况。发现适当增加AlCl3、NH3/H2值及沉积温度均可提高涂层中的Al含量。

• 单位
  中南大学; 粉末冶金国家重点实验室; 株洲钻石切削刀具股份有限公司