离子轰击碳膜凸起形成碳纳米尖端的理论分析

作者：王必本; 徐幸梓; 张兵

来源：河南师范大学学报(自然科学版), 2006, (04): 203-208.

DOI：10.16366/j.cnki.1000-2367.2006.04.055

• 碳纳米尖端
• 离子轰击
• 化学气相沉积 carbon nanotips
• ion bombardment
• chemical vapor deposition

用CH4、NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si上制备了碳纳米尖端.用原子力显微镜表征了碳膜,结果表明碳膜是凸凹不平的膜,有许多凸起.在生长碳纳米尖端的过程中,由于既有含碳离子在凸起上的沉积,又有氢离子和含氮离子对凸起的刻蚀,根据有关离子沉积和溅射刻蚀的理论,理论分析了离子轰击碳膜凸起碳纳米尖端的形成.

• 单位
  北京工业大学; 材料科学与工程学院; 重庆大学; 数理学院