真空烤盘炉研制及石墨盘清洁效果检测方法

作者：马昊鹏; 张革; 邓蕊; 杜程; 陈世斌; 谢力

来源：半导体技术, 2023, 48(04): 353-357.

DOI：10.13290/j.cnki.bdtjs.2023.04.013

• 真空烤盘炉
• 石墨盘
• 清洁效果
• X射线荧光(XRF)光谱分析法
• GaN
• AlN

在金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长过程中作为衬底片承载器的石墨盘表面不可避免地会附着GaN、AlN等残留沉积物，其会导致外延生长异常甚至失败，因此石墨盘表面清洁十分重要。介绍了所研制真空烤盘炉的结构、功能以及烤盘工艺，并提出一种利用X射线荧光(XRF)光谱分析法量化盘面清洁效果的方法。以单片6英寸(1英寸≈2.54 cm)衬底片的石墨盘为例，利用XRF光谱分析方法对石墨盘清洁前后的盘面元素组成进行测试，结果显示XRF光谱分析法可准确且稳定地表征石墨盘清洁效果，并且该真空烤盘炉可几乎完全清除石墨盘表面Ga的化合物，为石墨烤盘工艺和行业制定石墨盘清洁的合格标准提供参考。