磁控溅射技术在微小颗粒表面涂层中的应用

作者：杨静; 李圆圆

来源：真空, 2016, 53(04): 6-10.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.04.02

• 微小颗粒
• 磁控溅射
• 涂层

磁控溅射颗粒表面涂层技术相对于流化床CVD工艺来说,在安全、环保、杂质含量控制方面具有较大优势。本文分析了磁控溅射颗粒涂层技术的基本原理、面临的问题与挑战,介绍了国内外磁控溅射颗粒涂层技术的发展现状,为颗粒物料表面磁控溅射涂层技术研究提供参考。

• 单位
  中国核动力研究设计院