全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究

作者：孔光明; 鄂书林; 邓文渊; 赵虎旦; 郭洪波

来源：半导体光电, 2008, (05): 662-665.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2008.05.011

• 聚合物
• SU8光波导
• 光刻
• 工艺参数 polymer
• SU8 optical waveguide
• photolithography
• process variation

对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。

• 单位
  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 应用光学国家重点实验室; 中国科学院研究生院