超精密抛光中合适参量抛光粉的选择

作者:韩敬华; 杨李茗; 冯国英; 刘民才; 高胥华; 刘夏来; 杨浩
来源:工具技术, 2007, (01): 69-71.
DOI:10.16567/j.cnki.1000-7008.2007.01.022

摘要

在超精密抛光加工过程中,抛光粉参量对抛光质量的影响很大。试验研究抛光粉主要参量随抛光时间的变化规律,得到了适合超精密抛光的抛光粉参量的主要特点。根据抛光原理分析了抛光粉的主要参量对抛光表面的作用机理,提出一种选择适于抛光的合适参量抛光粉的方法。结果表明,利用该方法选择的抛光粉可稳定地加工出高质量的超光滑表面。

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