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摘要
使用两步插层方法制备了插层蒙脱土,用红外光谱(IR)和X射线衍射(XRD)图谱对插层效果进行了表征。结果表明,十八烷基胺以及8-羟基喹啉已进入蒙脱土层间,蒙脱土层间距分别由1.17 nm增加到1.57 nm和1.82 nm。EIS结果显示插层蒙脱土显著提高了环氧涂层的耐蚀性。
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单位国网江西省电力科学研究院; 中国科学院金属研究所
使用两步插层方法制备了插层蒙脱土,用红外光谱(IR)和X射线衍射(XRD)图谱对插层效果进行了表征。结果表明,十八烷基胺以及8-羟基喹啉已进入蒙脱土层间,蒙脱土层间距分别由1.17 nm增加到1.57 nm和1.82 nm。EIS结果显示插层蒙脱土显著提高了环氧涂层的耐蚀性。
