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摘要
基于光刻技术领域相关论文和全球“高被引科学家”名单，分析了光刻技术领域的研究时间和国家、研究机构、研究资助机构及高水平基础研究人才的分布特征，并在此基础上开展光刻领域论文的文献计量分析，分析光刻领域的研究方向、主题和发展趋势。结果表明，目前光刻技术论文产出呈现下降趋势，美国在该研究领域具有领先优势，光学光刻及掩模、光刻胶及电子束光刻、极紫外（EUV）光刻等技术主题研究仍以国外机构为主。我国已开展布局高数值孔径EUV光刻、导向自组装光刻、石墨烯基材料、机器学习的应用等新兴主题。本文提出光刻技术研发的总体布局、研究机构、企业力量、人才机制的建议，以期为相关领域决策和研究提供科学依据。
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单位中国科学技术信息研究所; 中国科学院大学; 中国科学院武汉文献情报中心
