摘要

本文概述了光刻技术的广泛应用并探讨其今后的发展方向,分析比较了几种常见立体光刻技术的优缺点,重点介绍了全息光刻技术在制备光子晶体方面的应用,并总结了我们小组的研究成果。

  • 单位
    中山大学; 光电材料与技术国家重点实验室