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摘要
采用平面激光诱导荧光技术测量双组分层式撞击流反应器撞击区浓度分布，利用混沌理论分析不同喷嘴间距、喷嘴直径和射流雷诺数下撞击流反应器浓度场混沌特征参数(关联维、Kolmogorov熵和最大Lyapunov指数)的变化规律。结果表明，撞击流反应器内浓度场混沌特征参数随喷嘴间距的增大呈上下波动的变化趋势，Kolmogorov熵在L=2d时达到最大。浓度场混沌特征参数随喷嘴直径增大呈上下波动的变化趋势，Kolmogorov熵在d=8 mm时整体上最大；射流雷诺数为Re=22000时整体上混沌特征参数最佳。受二次撞击区的影响，撞击面上靠近二次撞击区各点的混沌特征参数有明显提高。
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