CMP设备清洗单元控制软件研究

作者：张金环; 胡孝伟; 刘志伟

来源：电子工业专用设备, 2019, 48(05): 21-52.

• 化学机械平坦化设备
• 清洗单元
• 控制软件
• 软件设计

以应用材料公司设备为例介绍了CMP后清洗的工作原理;并针对兆声清洗和机械刷洗的软件需求做了深入分析;运用UML面向对象设计方法建立了可视化模型,对清洗单元的软件架构和设计方案进行了研究。

• 单位
  中国电子科技集团公司第四十五研究所