用模拟退火算法研究非晶硅薄膜的光学性质

作者：晏春愉; 高斐; 张佳雯; 方晓玲; 刘伟

来源：光学技术, 2009, 35(04): 492-495.

• 非晶硅薄膜(A-Si:H)
• 模拟退火算法
• 透射光谱
• 光学常数 amorphous silicon film
• simulated annealing algorithm
• transmission spectra
• optical constants

在玻璃衬底上采用等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)法制备了非晶硅薄膜(A-Si:H)。用紫外-可见-近红外分光光度计测出了其透射光谱。采用模拟退火算法研究了透射光谱,得出了薄膜的厚度、折射率和吸收系数随波长变化的关系式、光学带隙等光学常数,并对该方法的优缺点进行了讨论。

• 单位
  陕西师范大学