SiO_2纳米颗粒对电化学沉积半金属Bi膜的影响

作者：罗婷; 任山; 刘向阳; 梁才华; 张晨阳; 刘杨

来源：中山大学学报(自然科学版), 2006, 45(06): 40-43.

DOI：10.3321/j.issn:0529-6579.2006.06.009

• 热电材料
• 铋膜
• 电化学沉积
• 纳米复合膜
• SiO2纳米颗粒 thermoelectric materials
• bismuth film
• electrodeposition
• nano-composited film
• SiO_2 nanoparticles

研究了S iO2纳米颗粒对电化学沉积半金属B i膜沉积过程和膜形貌、结构的影响。利用I-V循环扫描曲线分析了未掺与掺入S iO2纳米颗粒后薄膜沉积过程的电化学特性,应用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对膜的微观表面形貌及相结构进行了表征。实验结果表明,加入S iO2纳米颗粒引起电沉积过程中还原电势向正电位方向移动,使B i3+离子的还原沉积更容易,但不对B i膜的溶解电位产生明显影响。加入S iO2纳米颗粒后能显著影响沉积膜的形貌,具有明显细化晶粒的效果。总之,S iO2纳米颗粒的加入及加入量显著影响B i膜的电化学沉积过程和形貌、结构。

• 单位
  中山大学; 光电材料与技术国家重点实验室