多晶硅薄膜制备技术的研究进展

作者：马蕾; 简红彬; 康建波; 彭英才

来源：河北大学学报(自然科学版), 2005, (01): 97-103.

• 多晶硅薄摸
• 低压化学气相淀积
• 热丝化学气相淀积
• 固相晶化
• 激光诱导晶化
• 金属诱导晶化 poly_Si films
• LPCVD
• HWCVD
• SPC
• LIC
• MIC

多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种方法薄膜的淀积机理,并预测了多晶硅薄膜制备技术的未来发展趋势.

• 单位
  电子信息工程学院; 河北大学