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摘要
随着光刻图形尺寸越来越小,缺陷(任何对目标图形的偏离)对产品良率影响越来越大。在各种各样的缺陷产生原因中,显影缺陷是影响产品良率的一种主要的缺陷来源。本文通过对T map缺陷所经过涂胶与显影单元次数分析,在仔细研究显影单元构造,推论出显影nozzle回到起始位置过程中,显影液偷滴到所经过显影单元内正在旋干的spin wafer上造成了T map缺陷,并通过实验验证了推论结论。在明确成因的基础上,进一步给出了显影nozzle回吸调整方法,避免了T map再次发生造成的产品报废,给行业内解决同类缺陷提供了参考。
