分别采用电火花沉积和激光熔覆技术在铜合金表面制备了不同组织和性能的沉积层,用SEM,XRD,OM和显微维氏硬度计进行了组织结构和性能分析,结果表明:在铜合金表面可采用激光熔覆的方法制备异质的沉积层,沉积层与铜基体冶金结合,其组织致密、晶粒细小、无裂纹和孔隙夹杂等缺陷,沉积层内部组织形貌为等轴晶、树枝晶及胞状晶等;电火花沉积工艺可在铜合金表面形成铜基的沉积制造层,电火花层与铜基体形成冶金结合,其组织致密、晶粒细小、无裂纹、孔隙夹杂等缺陷.
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