四种自酸蚀粘接剂牙本质粘接界面纳米渗漏比较

作者：廖志清; 欧阳勇; 杨剑珍

来源：中华口腔医学杂志, 2011, 46(9): 554-557.

DOI：10.3760/cma.j.issn.1002-0098.2011.09.011

• 牙本质
• 纳米渗漏
• 自酸蚀

目的 比较4种自酸蚀粘接剂牙本质粘接界面纳米渗漏及微观形态。方法 选取16颗无龋人离体第三磨牙，制备统一的牙本质玷污层，分别用4种自酸蚀粘接剂A( Adper Prompt)、B( iBond)、C(XenoⅢ)及D(SE Bond)按使用说明进行粘接处理，垂直粘接面切成0.9 mmx4.0 mm试件，避光贮存于氨化硝酸银溶液中24 h，经显影固定脱矿后，切成90 nm超薄切片，铀、铅染色后于透射电镜下观察银离子的渗入情况及界面相关结构。结果4种粘接剂形成的混合层及粘接层薄厚不同：粘接剂A、C混合层较B、D厚，粘接层较B、D簿。4种粘接剂粘接界面均有不同程度纳米渗漏：A(45.02 ±9.49)；B(43.97±8.55)；C(27.02±10.86)；D(12.94±2.07)。粘接剂D组纳米渗漏较小，与其他3种粘接剂间差异有统计学意义(P＜0.05)。结论4种自酸蚀粘接剂混合层和粘接层厚度存在差异，粘接界面的纳米渗漏率不同，一步法自酸蚀粘接系统纳米渗漏较两步法系统明显。

• 单位
  中山大学; 深圳市儿童医院