高压退火气氛对溶液法制备a-IGZO薄膜光学特性的影响

作者：李勇男; 向超; 殷波; 潘东; 汤猛; 钟传杰

来源：微电子学, 2018, 48(05): 690-694.

DOI：10.13911/j.cnki.1004-3365.170533

• 退火气氛
• 椭圆偏振光谱
• 溶液法
• a-IGZO薄膜

利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影响。实验结果表明,当退火气氛为O2时,压强由0.1MPa增加到1.5MPa,薄膜的光学带隙由3.23eV增大到3.31eV,表面粗糙层由6.77nm降低到4.77nm。与N2气氛相比,1.5MPa O2气氛下薄膜的光学带隙有所提高,表面粗糙度也有所降低。因此,在1.5MPa O2气氛下,可以有效降低薄膜内部有机物的残留及缺陷,形成更加致密的非晶a-IGZO薄膜。

• 单位
  机械工业第六设计研究院; 江南大学