掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜

作者：王美涵; 温佳星; 陈昀; 雷浩

来源：无机材料学报, 2018, 33(12): 1303-1308.

• 氧化钨薄膜
• 纳米结构
• 掠射角
• 磁控溅射

采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜,并对薄膜进行热处理。利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征。当掠射角度为80?时,采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构,而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构。纳米薄膜经450℃热处理3 h后,纳米斜柱彼此连接,失去规整结构,而纳米孔结构的孔尺寸变大。XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构,经450℃热处理1h后,转变为单斜晶相。具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600 nm时达到60%,且电致变色性能可逆。

• 单位
  沈阳大学; 中国科学院金属研究所