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SiC单晶生长技术研究现状
作者:刘春俊
来源:
中国照明电器
, 2017, (10): 18-21.
碳化硅
单晶生长
物理气相传输法 SiC
crystal growth
physical vapor transport method
摘要
本文回顾了碳化硅单晶材料的发展历程和研究现状。主要讨论了物理气相传输法、高温化学气相沉积法(HTCVD)、液相法等SiC晶体生长方法,针对每种生长方法,阐述了其生长原理及研究现状。
单位
北京天科合达半导体股份有限公司
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