直流偏压对CrN薄膜结构和性能的影响

作者:李碧晗; 詹华; 吴佳亿; 刘继彬; 汪瑞军*
来源:新技术新工艺, 2022, (03): 1-4.
DOI:10.16635/j.cnki.1003-5311.2022.03.001

摘要

采用电弧离子镀技术在高速钢表面制备CrN薄膜,研究直流偏压对CrN薄膜结构和性能的影响。利用冷场发射扫描电镜和X射线衍射仪对薄膜的表面形貌和微观结构进行分析,利用球坑仪、显微硬度计以及多功能材料表面性能试验仪等,对薄膜的厚度、硬度以及结合力进行研究。结果表明,在不同直流偏压下,薄膜均由CrN相组成。当直流偏压从-60V增加到-80V时,薄膜表面大颗粒数数量和尺寸明显减少,沉积速率、硬度和结合力增加;但当直流偏压幅值继续增加时,薄膜表面大颗粒的数量和尺寸随之增加,沉积速率、硬度和结合力随之降低。当直流偏压为-80V时,薄膜的表面形貌、沉积速率、硬度和结合力最佳。

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